CMOS芯片结构与制造技术

? 基本信息

  • 书名:CMOS芯片结构与制造技术
  • 作者:潘桂忠 编著
  • 出版社:电子工业出版社
  • 出版时间:2021/12/1
  • 字数:238千字

? 推荐语

本书给出了100种典型CMOS芯片结构,介绍了各种典型制造技术,并描绘出50种制程剖面结构。

? 内容简介

本书从CMOS芯片结构技术出发,系统地介绍了微米、亚微米、深亚微米及纳米CMOS制造技术,内容包括单阱CMOS、双阱CMOS、LV/HV兼容CMOS、BiCMOS、LV/HV兼容BiCMOS,以及LV/HV兼容BCD制造技术。

全书各章都采用由CMOS芯片主要元器件、制造技术及主要参数所组成的综合表,从芯片结构出发,利用计算机和它所提供的软件,描绘出芯片制造的各工序剖面结构,从而得到制程剖面结构。

✍️ 作者简介

编者潘桂忠,男,工作期间主要从事集成电路设计,工艺技术,芯片结构,电路研制以及生产等领域工作,退休后受聘于各单位(北电或新茂半导体公司,清华大学微电子所,复华公司以及上海五官科医院等)任高级技术顾问。曾在国内不同刊物上发表论文50余篇,曾编著《MOS集成电路结构与制造技术》《MOS集成电路工艺与制造技术》等书。

? 出版社介绍

电子工业出版社成立于1982年10月,是国务院独资、工信部直属的中央级科技与教育出版社,是专业的信息技术知识集成和服务提供商。经过三十多年的建设与发展,已成为一家以科技和教育出版、期刊、网络、行业支撑服务、数字出版、软件研发、软科学研究、职业培训和教育为核心业务的现代知识服务集团。出版物内容涵盖了电子信息技术的各个分支及工业技术、经济管理、科普与少儿、社科人文等领域,综合出版能力位居全国出版行业前列。
声明:本站所有文章,如无特殊说明或标注,均为本站原创发布。任何个人或组织,在未征得本站同意时,禁止复制、盗用、采集、发布本站内容到任何网站、书籍等各类媒体平台。如若本站内容侵犯了原著者的合法权益,可联系我们进行处理。